光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种光照后能改变抗蚀能力的高分子化合物。一般情况下，光刻胶是带有芳香味的具有一定黏度及颜色的液体。光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。光刻胶的作用是将光刻板上的图形转移到硅片表面的氧化层中，在后续工序中，保护下面的材料。

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。光刻胶成分分析是运用科学方法分析产品的成分，并对各个成分进行定性定量，对现有产品配方进行改进，升级优化，提高研发进度，减少研发成本。

适用范围

PCB光刻胶、 面板光刻胶 、 半导体光刻胶等

光刻胶主要由以下多个成分组成

（1）感光剂。感光剂是光刻胶的核心部分，感光剂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。曝光时间、光源所发射光线的强度都根据感光剂的特性来决定。

（2）增感剂。感光剂的感光速度都较慢，生产上效率太低，因此向光刻胶中添加了提高感光速度的增感剂。

（3）溶剂。感光剂和增感剂都是固态物质，为了方便涂覆，要将它们加入溶剂进行溶解，形成液态物质。

（4）添加剂。添加剂用以改变光刻胶的某些特性，如为改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。

可能用到的仪器设备

气相色谱-质谱联用仪（GC-MS）

液相色谱-质谱联用仪（LC-MS）

高分辨液相色谱-质谱联用仪（LC-MS-MS）

液体核磁（NMR）

裂解气相色谱质谱联用（PY-GC-MS）

X射线荧光光谱分析仪（XRF）等